화학적 산 에칭은 포스트 No.1에서 설명한 바와 같이 다양한 재료에 복잡한 디자인을 만드는 강력한 방법이다. 그러나 최종 제품을 손상시킬 수 있는 얼룩에는 제거가 어렵다. 산성 에칭 표면의 얼룩은 부적절한 취급 또는 재료의 자연적인 산화로 인한 것인지 여부에 관계없이 일반적인 문제가 될 수 있다. 따라서 이번 주제는 화학적으로 산성이 있는 품목에서 얼룩을 효과적으로 제거하고 깨끗한 외관을 복원하는 방법에 대해 설명하겠다.
얼룩(Stain)의 종류 이해
제거 과정에 들어가기 전에 다루고 있는 얼룩의 유형을 식별하는 것이 중요하다. 산성 에칭 표면의 얼룩은 일반적으로 두 가지 유형으로 분류할 수 있다.
1.표면 얼룩: 재료 깊숙이 침투하지 않은 얼룩이다. 표면 얼룩은 일반적으로 제거하기가 더 쉬우며 얼룩, 지문 또는 유출로 인한 경미한 변색이 포함될 수 있다.
2.깊은 얼룩: 깊은 얼룩이 재료에 침투하여 제거하기가 더 어려운 경우, 얼룩은 부식성 물질에 장기간 노출되거나 에칭 과정에서 부적절한 취급으로 인해 발생할 수 있다.
예방 조치
예방이 최선의 전략인 경우가 많다. 다음은 산성 에칭 품목의 얼룩을 방지하는 데 도움이 되는 몇 가지 단계이다.
1.취급 주의: 기름(유기물)과 오염 물질의 전달을 최소화하기 위해 항상 깨끗하고 건조한 손으로 산성 에칭 품목을 다루자.
2.Wiper 사용: 부드럽고 마른 천으로 에칭 된 표면을 주기적으로 청소하여 표면 오염 물질을 제거하자.
3.보호 코팅: 에칭된 표면에 투명 바니시 또는 실란트와 같은 보호 코팅을 적용하는 것이 좋다. 이것은 얼룩을 제거하고 청소를 더 쉽게 만드는 데 도움이 될 수 있다.
5.통제된 환경(Clean room): 얼룩을 유발할 수 있는 환경 요인에 대한 노출을 줄이기 위해 통제된 환경에서 산성 에칭 된 품목을 보관하거나 진열하자.
결론적으로, 화학적으로 산성 에칭된 표면에서 얼룩을 제거하려면 얼룩의 종류와 깊이에 따라 신중한 접근이 필요하다. Wiper사용 및 보호 코팅은 얼룩을 방지하는 데 큰 도움이 될 수 있다. 얼룩이 발생하면 적절한 청소 방법을 선택하고 에칭된 표면이 손상되지 않도록 주의하는 것이 중요하다. 확실하지 않은 경우 얼룩 제거에서 최상의 결과를 얻을 수 있도록 전문가의 도움을 받자.
'관심' 카테고리의 다른 글
| 포스트 No.6 반도체 Si 챔버(컴포넌트) PWP 및 MAE 공정 (53) | 2023.12.25 |
|---|---|
| 포스트 No.5 반도체 제조에서의 표면 처리 파라미터: Ra, Rz, RSm (48) | 2023.12.20 |
| 포스트 No.4 화학적 알칼리에칭(Alkali Etching)의 얼룩(Stain) 제거, 팁 기술 (1) | 2023.11.15 |
| 포스트 No.3 '화학적 알카리에칭의(Alkali Etching) 장단점' (2) | 2023.11.14 |
| 포스트 No.1 '화학적 산 에칭(Acid Etching)의 장단점' (0) | 2023.11.12 |